第401章 光刻之盟（1 / 2）
林远挂断了温彼得的电话。
办公室里陷入了短暂的寂静，只剩下机房服务器风扇那永不停歇的低鸣声。他并没有急着欢呼，而是走到落地窗前，俯瞰着脚下这座正在飞速运转的城市，大脑冷静得像一台精密的离心机。
ASML为什么会在这个时候主动示好？
绝不仅仅是因为昆吾软件的成功。在ASML这种掌握着人类精密制造皇冠明珠的巨头眼里，软件再好也只是辅助工具。真正让他们感到脊背发凉的，是那场正在悄然逼近的路线之争。
硅基芯片已经逼近了1纳米的物理极限。摩尔定律即将失效，EUV光刻机的售价高昂得令人咋舌，且耗电量惊人，技术复杂度几乎触碰到了人类工程学的天花板。而林远和汪韬正在死磕的光子芯片，代表的是一种完全不同的物理法则——以光代电。
一旦这条路线跑通，光刻机的重要性将大打折扣，ASML赖以生存的护城河将在一夜之间干涸。
温彼得不是来合作的，他是来对冲风险的。他想用现在的技术，买一张通往光子时代的船票。
“想上船？”林远看着墙上的世界地图，目光穿过南海，落在了那个扼守马六甲海峡的小红点上，“可以。但这张票，必须用我想要的东西来换。”
他拿起电话，拨通了刘华美和汪韬的号码，声音平静却有力。
“准备一下，四十八小时后，新加坡，嘉佩乐酒店。我们要去见一位真正的巨人。”
……
新加坡，圣淘沙岛，嘉佩乐酒店。
这座由英国殖民时代的古老建筑改建的酒店，掩映在郁郁葱葱的热带雨林中，空气中弥漫着湿润的海风味道。今天，它将见证半导体历史上最诡异，也最重要的一次握手。
会议室里没有庞大的随行团队，只有核心的几个人。
中方是林远、汪韬、王海冰和李振声；荷方则是温彼得，以及ASML的技术灵魂人物——马丁·范登布林克。
双方落座，气氛微妙而紧绷。
“林先生，”温彼得率先开口，他的英语带着典型的荷兰口音，直率而务实，“由于众所周知的原因，我们无法向中国出售EUV光刻机。这一点我很遗憾，但我无能为力，这是政治现实。”
“但是，”他话锋一转，身体微微前倾，“对于基础科学研究，瓦森纳协定并没有完全禁止。我们对贵方在苏黎世和新加坡设立的光子芯片联合实验室非常感兴趣。我们希望作为技术合伙人加入。”
“条件呢？”林远不动声色地问道。
“我们愿意提供一亿美金的研发资金，以及ASML在光学透镜、精密机械控制领域的部分非涉密专利授权。”温彼得开出了早已准备好的价码，“作为交换，我们需要共享实验室在硅光子架构和光互连方面的所有研究成果。”
“一亿美金？”汪韬冷笑了一声，那笑声里带着三分轻蔑。
他将一台笔记本电脑推到桌子中央，屏幕上是一张极为复杂、宛如迷宫般的光路图。
“温彼得先生，您是行家。您应该看得出来，这是什么。”
马丁·范登布林克，那位一直沉默寡言的技术总监，凑近屏幕看了几眼。下一秒，他的瞳孔瞬间收缩，呼吸都变得急促起来。
“这是……片上光路波导的拓扑结构？你们解决了光子在微米尺度下的损耗问题？！”
“解决了。”汪韬面无表情地合上电脑，“利用我们自研的拓扑光子晶体材料，损耗降低了90%。这意味着，光子计算不再是理论，而是可以工程化的现实。”
他看着马丁，一字一句地说道：“这个技术的价值，是一亿美金的后面，再加两个零。”
马丁看向温彼得，微微点了点头。这个眼神确认了一个事实：中国人在光子芯片领域，真的走到了世界前列。
“那你们想要什么？”温彼得深吸一口气，不再试探，“既然EUV卖不了，我还能给你们什么？”
林远身体前倾，双手交叉放在桌上，目光如炬。
“我要的不是机器。”
“我要的是——光的算法。”
他抛出了一个让所有人都意想不到的概念：“计算光刻。”
温彼得和马丁对视一眼，都看到了对方眼中的震惊。
“温彼得先生，”林远打开了自己的PPT，“我们都知道，光刻机的物理精度是有极限的。但是，决定芯片最终良率的，不仅仅是镜头和光源，还有掩膜版的图形设计。”
“光线在穿过掩膜版时，会发生衍射和干涉，导致投射到硅片上的图形发生畸变。本来是直角的电路，印出来变成了圆角；本来是分开的线条，印出来粘连在了一起。”林远顿了顿，继续说道，“为了修正这种畸变，我们需要光学邻近效应修正技术，也就是OPC。”
“通过极其复杂的数学算法，反向计算出掩膜版上应该有的形状。这需要海量的算力，和对光刻机光源特性的绝对了解。”
林远看着马丁，语气变得极其郑重：“我们有昆吾平台，我们有燕山超算的E级算力，我们有盘古AI大模型。但是，我们没有ASML光刻机的光源模型数据。”
“你们的光源，波长漂移、光强分布、相干性等各项参数是保密的。没有这些数据，我们的OPC算法就是瞎子。”
“我的提议是：成立启明-ASML联合计算光刻实验室。”
“我们出算力、AI算法以及昆吾EDA平台中的OPC引擎；你们出光源模型数据、透镜像差数据以及光刻胶的光化学反应模型数据。”
“目标是开发一套全新的，基于AI的逆向光刻技术系统。”
林远的眼中闪烁着精光，那是猎人看到猎物即将落网时的兴奋：“这套系统不需要EUV。它能让现有的DUV光刻机，通过多重曝光和极致的软件修正，生产出7纳米，甚至5纳米的芯片！”
“这就是——软件定义制造！”
整个会议室陷入了死一般的寂静。
马丁的手在微微颤抖。作为全球最顶尖的光刻机专家，他太清楚这个方案的可行性了。DUV光刻机的物理波长是193n，通过浸没式技术可以等效为134n。理论上，通过多重曝光确实可以做到7n。
但其代价是掩膜版的设计复杂度呈指数级上升，计算量大到惊人。传统的软件处理一张7n的全芯片版图，需要跑上几天几夜。
但如果有中国那近乎无限的廉价算力和基于GPU加速的AI算法？
也许，真的可以！
“这不违反瓦森纳协定。”林远的律师高翔适时地补了一句，“我们交换的是数学模型和算法，不是实体设备。这是科学研究。”